研究生的贴在电子发烧友论坛里火了,连翻十几页，盖了一栋两千层大楼，楼里都是来求证的半导体圈内人。
【13.5nm光源系统设备专利注册……吹吧,吹到牛皮破了说不定国外人真相信了。】
【专利都申请,不可能有假吧？】
【建议你查一查汉芯事件，当年凭一块美国二手芯片在国内注册专利,狂揽十几亿。学术圈造假比比皆是,诺贝尔奖都能造假，何况一个专利？】
【要真是13.5nm光源系统设备被研发出来,堪比EUV的国产光刻机就能造出来了吧？我国多久能追上ASML？】
【傻吗你？人家ASML四五十年前开始研究光刻机,集齐全球两千多名顶级工程师,镜头用德国蔡司，光源用美国Cymer,垄断双工作台技术……我国追上现在的ASML至少需要二十年！】
【我国虽然不至于举国之力研发光刻机,但这方面也布局二十多年，不至于被ASML比到尘埃去吧？】
【申市微电子科技目前只能造出90nm工艺制程的光刻机，还不确定是否能量产,你说差距多大？】
【怎么歪楼了？不是涛13.5nm光源系统设备是否真的被研发出来吗？】
【假如！假如13.5nm光源系统设备被研发出来,我国多久能拥有一台国产EUV？】
【保守估计，明年下个季度。但也有可能,今年年底可实现国产EUV验收。】
【！！！不是还有其他子系统设备没研发出来吗？】
【只要最关键的光源系统设备和双工作台系统研发出来,其他问题被解决只需要时间和人手。】
【看来还是没人知道13.5nm光源系统设备被研发出来到底意味着什么！】
【所以你能说明白吗？】
【春城和申市两大光机所接下光学子系统研发（就是高精度镜头）,水木大学研发团队负责双工作台系统（工程已验收），南大光电是光刻胶，蓝河科技接
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