“津市蓝河科技历时四年攻克13.5nm光源系统设备,项目通过验收，已申请国家专利，并列入国家重大科学工程项目。我相信你们都很感兴趣,现在我从EUV的靶材、光源的优化和设计以及碎屑处理系统等装置进行理论阐明,实验为辅的演讲。”
盛明安无视多少双眼睛盯着他看，镇定自若的按照他的计划进行演讲。
而他演讲的内容既言之有物,又不会真正暴露光源系统设备的核心技术。
底下窃窃私语：“真的是13.5nm光源系统？！”
“专利申请是真的！”、“列入国家重大科学工程项目,很可能和微电子科技合作共同组装EUV。”、“双工作台完成，如果蓝河科技关于13.5nmEUV的仿真建模……那么最迟明年,我国就有EUV了！”
“卧槽！如果是真的,我们还稀罕什么ASML？照我国的行动速度,不出两年，肯定完善不输给美国半导体协会的半导体产业链！”
“盛明安真的是我盛神？！我盛神不是科大学生？他不是才大二？我记得他研究量子力学去了！”
“狗P！你不知道盛神光学专业的吗？光学专业搞光刻机才是光宗耀祖！”
“啊这……别驴我,国内光学专业就是混日子的。”
莫伦科夫脸色难看,眉头紧皱，保罗向前倾身质疑：“是骗局吗？”
莫伦科夫：“先听听看。”
不止他们，ASML的高管神色肃穆,在场没人比他更具危机感,因为全球没有哪家光刻机可媲美ASML的EUV。
他们一家独大，实行科技霸权,如果盛明安的13.5nm光源系统设备真的攻克了,那就意味着他们将失去这独特的霸权地位,不得不与人平分市场，更甚他们还落后了华国的光刻机技术！
其他人诸如日本的天野浩，台积电的副总,华芯国际、华兴科技、华电科等知名老总，以及邱博士和庄博士都全神贯注听盛明安的演讲。
无论是ASML还是华国的蓝河科技拥有高阶极紫外光刻机对除了美国、荷兰以外的国家而言其实都一样,一家独大的局面被打破
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